激光粒度分析儀

一、核心適用范圍

二、核心技術參數

1. 測試范圍：濕法 0.01~3500μm、干法 0.1~3000μm（均取決于樣品）；
2. 精度誤差：濕法準確性與重復性誤差均 < 0.5%，干法均 < 1%（以標準樣品 D50 值計）；
3. 硬件配置：116 通道，搭載 639nm 主激光 + 405nm 輔助藍光激光器（壽命＞50000H），全自動對中系統步進精度 0.1μm；采樣頻率＞10000Hz/s，測試速度 < 10s / 次（不含進樣）；
4. 分散系統：濕法采用 40KHz/60W 超聲、0-3000rpm 攪拌、1000-8000mL/min 循環分散；干法采用壓縮空氣 + 紊流分散 + 正激波剪切技術；
5. 設備規格：主機 870mm×365mm×325mm（32kg），濕法模塊 415mm×350mm×380mm（15kg），干法模塊 260285135mm（7kg）。

三、核心性能特點

1. 干濕模塊化設計：主機干濕一體，輔機模塊可自由選配，支持干濕一鍵切換，適配高端測試與科研需求；
2. 全智能操作：SOP 全自動操作，干濕法均支持一鍵完成全部測試流程，減少人工工作量，消除人為誤差；
3. 高精度光路系統：精密光路自動對中（微動精度 0.1μm），搭配會聚光傅立葉變換、三譜面接收、雙激光正交光路等專利設計，兼顧大 / 小顆粒高分辨能力，擴展測試范圍；
4. 高效分散與防沉淀：獨創專利分散系統，大功率融動泵 + 優化管路設計，有效防止大顆粒二次沉淀；
5. 精準數據擬合：微納獨創無約束自由擬合技術，無函數限制，真實反映顆粒分布狀態；
6. 靈活折射率設置：海量折射率可選，也可手動輸入任意折射率，適配不同樣品測試。

四、軟件功能與操作

1. 多分析模式：支持自由分布、R-R 分布、對數正態分布、按目分級統計，可自定義輸出 D1~D100 任意特征粒徑、粒徑占比等結果；
2. 數據處理與對比：智能化統計處理測試數據，支持多批次 / 加工前后數據統計比較，指導產品質量與成本控制；
3. 結果輸出與報告：輸出粒徑典型值、微分 / 積分分布數據及圖形，測試報告可導出 Word、Excel、bmp、txt 等格式，滿足多場景需求；
4. 操作界面：分人工 / 自動兩種控制模式，干濕法各有專屬控制系統；測試后自動生成分析記錄，支持平均結果選取，界面為中英文雙語，可按需添加其他語言。

五、測試結果與圖表解讀

1. 關鍵指標定義：D10/D50/D90 分別為顆粒累積分布 10%/50%/90% 對應的粒徑；DAV 為平均粒徑；S/V 為體積比表面積；
2. 圖表規則：橫坐標為對數分布的粒徑值，左列是體積累計百分比（上升曲線），右列是粒徑區間體積百分比（直方圖 / 起伏曲線），數據列表與圖表結果一一對應。

六、型號選擇